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型號：Xradia 520 Versa

詳細(xì)描述

低于 700 nm 的真實(shí)空間分辨率。

低于 70nm 的最小體素。

雙級放大倍率提供的“大工作距離下的高分辨率（RaaD）”技術(shù)，保證了在亞微米的分辨率下更大更靈活的工作距離。

利用搜索和放大功能進(jìn)行獨(dú)特的無損內(nèi)部斷層掃描。

優(yōu)化的增強(qiáng)型吸收襯度探測器能夠最大程度地收集形成襯度的低能量 X 射線光子。

可調(diào)傳播相位襯度技術(shù)能對低原子序數(shù)材料和具有低吸收襯度的生物樣品進(jìn)行成像。

使用雙能量探測功能最大化單個掃描難以區(qū)分的差別。

無損 X 射線顯微鏡可對原位實(shí)驗的微觀結(jié)構(gòu)和隨時間演化（4D）的特征進(jìn)行獨(dú)特的表征。

支持多種在環(huán)境試驗箱內(nèi)不同變化條件下高達(dá)幾英寸的樣品的亞微米成像的原位實(shí)驗。

大工作距離下的高分辨率（RaaD）使 Xradia Versa 能夠在X射線源與樣品空間增長下保持高分辨率，然而傳統(tǒng)的 micro-CT 在樣品放置在寬敞的原位腔中分辨率會下降。