型號(hào):Xradia 520 Versa |
詳細(xì)描述 |
低于 700 nm 的真實(shí)空間分辨率。 低于 70nm 的最小體素。 雙級(jí)放大倍率提供的“大工作距離下的高分辨率(RaaD)”技術(shù),保證了在亞微米的分辨率下更大更靈活的工作距離。 利用搜索和放大功能進(jìn)行獨(dú)特的無(wú)損內(nèi)部斷層掃描。 優(yōu)化的增強(qiáng)型吸收襯度探測(cè)器能夠最大程度地收集形成襯度的低能量 X 射線光子。 可調(diào)傳播相位襯度技術(shù)能對(duì)低原子序數(shù)材料和具有低吸收襯度的生物樣品進(jìn)行成像。 使用雙能量探測(cè)功能最大化單個(gè)掃描難以區(qū)分的差別。 無(wú)損 X 射線顯微鏡可對(duì)原位實(shí)驗(yàn)的微觀結(jié)構(gòu)和隨時(shí)間演化(4D)的特征進(jìn)行獨(dú)特的表征。 支持多種在環(huán)境試驗(yàn)箱內(nèi)不同變化條件下高達(dá)幾英寸的樣品的亞微米成像的原位實(shí)驗(yàn)。 大工作距離下的高分辨率(RaaD)使 Xradia Versa 能夠在X射線源與樣品空間增長(zhǎng)下保持高分辨率,然而傳統(tǒng)的 micro-CT 在樣品放置在寬敞的原位腔中分辨率會(huì)下降。 |